過完年,入春之後,國內遭受旱災的耕地麵積有了大幅收縮。

其實以正常年份來看,今年也是個災年,但前兩年實在太嚴重了,相比之下,今年的受災耕地麵積連去年的一半都冇有,已經是大為改善了。

城市供銷社的農副產品已經不再缺貨,每人的口糧配額再次小幅增加,大家的生活也漸漸恢複正常。

這天上午,徐衛國來到單位後,第一時間趕去了光刻機實驗室。

曆經兩年有餘的研發,他們的投影式光刻機已經來到了收尾階段,他每天都得去看看進展。

進了實驗室大門,剛走幾步,徐衛國突然頓住了。他轉身,走到旁邊的掩膜臺項目組,推開虛掩的門往裡瞧了眼,屋裡冇人。

整棟樓都安靜的嚇人,完全不像有幾百號人的樣子。

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「章立軍?乾什麽呢你們?人都去哪了?」徐衛國喊道。

一邊喊著,他快步往放置光刻機的房間走去。

轉過拐角,走廊裡烏泱泱站滿了人,全都瞪著熬得紅通通的眼睛,一聲不吭的看著徐衛國,嚇了他一跳。

「不在自己工位,都在這乾什麽呢?」徐衛國喊道。

冇人說話。

「說話啊你們,傻了嗎?」徐衛國的心一下子緊繃起來,他看向站在人群最前方的室長章立軍:「章立軍,你們在這搞什麽,出什麽問題了?」

章立軍微微低下頭,還是不吭聲。

徐衛國快步走上前,使勁拍了拍章立軍的胳膊:「你啞巴了?說話啊?出什麽問題了?樣機損壞?還是……有人猝死了?」

章立軍抬起頭,小聲道:「所長……」

「你特麽倒是說啊!」

「我們……成功了!」

嗷嗷嗷~

走廊上突然響起震耳的歡呼聲,眾人跟突然活過來了一般,一擁而上,架著徐衛國的胳膊腿就抬了起來。

「放下,放下我,我恐高!**,一幫傻蛋!」

眾人抬著徐衛國走進存放光刻機樣機的房間,這才把他放下來。

看著麵前與一輛小貨車體積相當的龐大機器,徐衛國也顧不上惱火了,問道:「什麽時候完成的?」

章立軍笑嘻嘻的道:「淩晨五點。」

徐衛國心裡鬆了口氣,走到機器前,盯著看了一陣。

接著,他突然轉過身,冷冷的看著喜氣洋洋的眾人。

被他這麽盯著,眾人臉上的笑容一僵,有些無措。

隨後,徐衛國目光掃向章立軍。

章立軍也有點懵,怯怯的道:「老……所長!」

沉默,足足七八秒的沉默後,徐衛國嘴角才浮起一絲笑意,道:「乾的不錯!」

他這一笑,其他人緊張的神經這才放鬆下來。

「你嚇我一跳,我還以為哪出問題了呢!」章立軍苦著臉道。

徐衛國輕哼一聲,「你們嚇唬我,就不許我嚇唬你們?……行了,都回去休息吧!休息好了再回來工作。」

「我們不困,現在就安排生產集成電路樣品試試唄?」

「對啊,我們還能扛!」

徐衛國揚了揚手,道:「行了行了,機器都做出來了,不差這一天。明天吧,明天再開始吧!」

這年代集成電路的生產過程還是很漫長的,尤其是集成的電子元器件越來越多,從一塊矽片到變成封裝好的成品,實際生產過程常常需要數周。

當然,其中大部分時間都耗費在了各個流程之間的準備等待過程中,而真正製造過程耗費的時間,則大概要十幾個小時。

……

轉眼到了第二天,徐衛國來到單位後,使用新設備的集成電路樣品試生產工作正式開始。

製造集成電路,隻有光刻機當然是不夠的,還需要薄膜沉積設備丶刻蝕設備丶摻雜設備丶清洗設備丶檢測設備丶封裝設備,總共六大項。

這六類設備在他們研究所有不同實驗室負責,都是幾十人的小團隊。

從它們的複雜程度跟研製難度來說,自然是遠不及光刻機的,去年底的時候就已經完成了研發。如今光刻機也做出來了,那麽集成電路的製造工作也就打通了全技術鏈條。

徐衛國首先前往各相關實驗室,布置任務。

晶圓他們有現成的,這東西能長期儲存,不需要再從石英砂開始生產了。

集成電路版圖設計圖紙也有現成的,直接用新款計算器上的同款,畢竟他們隻是要驗證生產設備的功能,暫時不需要集成那麽多電子元器件。

真正開始的第一步,是根據電路版圖製造掩模。

因為電路版圖已經相當複雜,已經不可能再像初期那樣手工製造掩模,必須使用一種新設備,圖形發生器。

這東西就是一個將電路設計圖「雕刻」到掩模版上的設備,其中還需要用到高性能計算機,其原理就是使用計算機將版圖設計文件分解成簡單的基本圖形單元,隨後計算機控製可變矩形光闌的矩形孔不斷變化方向跟大小,在這個過程中光源照射矩形光闌,對其進行曝光丶最後在掩模版上拚接成完整圖形。(可變矩形光闌是由金屬刀片組成的,開口大小可調整的矩形孔)

此時的圖形發生器使用的是純光學方法,效率很低,後世已經采用雷射直寫技術。

完成掩模製造後,接著就要拿去做薄膜沉積丶繼而光刻丶隨後刻蝕丶離子註入,晶圓測試,封裝。

為了儘快拿到集成電路樣品,徐衛國給各實驗室安排好了時間表,晚上也不停,人跟著製造流程走。

就在這樣不間斷的工作下,等第一塊集成電路封裝完成,也已經是五天後了。

拿到樣品後,實驗室第一時間對其進行了功能性驗證,結果全部合格。

接下來最重要的事,則是測量其加工精度,最核心的指標是特徵尺寸。

所謂特徵尺寸,打個比方就是筆尖有多細,越細越好,越細就能寫出越小的字。

後世常說的晶片采用幾納米工藝,指的就是特徵尺寸。

他們使用的光刻機,理論上已經能加工亞微米級丶也就是從100納米到1微米級彆特徵尺寸的集成電路,但實際效果還不知道。